宣传资料

MIRTEC于6月10日至6月12日参加了在日本东京国际展示场举行的JPCA Show 2026。再次衷心感谢展会期间莅临MIRTEC展位的各位嘉宾。

在JPCA Show 2026上，MIRTEC展出了以下设备：

• 可实现100%漫反射检测的3D AOI系统“ART”
• 可检测微小气泡及涂覆盲区的“GENESYS-CC”
• 全新3D AOI系统“MV-6 OMNI Alpha”
• 世界领先的台式检测设备“MV-3 OMNI MARK II”

此外，与以往不同的是，本届展会上众多日本客户对MIRTEC基于AI的系统表现出了浓厚兴趣。相较于竞争对手，MIRTEC凭借更先进的AI技术及应用该技术的检测系统，再次证明了其检测设备的卓越性能与技术优势。

通过为期三天的JPCA Show 2026，MIRTEC深入了解了当前日本市场重点关注的领域与技术趋势，这是一次非常有意义的交流与学习机会。

最后，MIRTEC衷心希望各位客户能够通过JPCA Show 2026获得宝贵的体验，并留下美好的回忆。